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首顆“3D封裝”芯片誕生,突破7nm極限,集成600億根晶體管

首顆“3D封裝”芯片誕生,突破7nm極限,集成600億根晶體管

首顆“3D封裝”芯片誕生,突破7nm極限,集成600億根晶體管

詳情

    臺(tái)積電,三星持續(xù)攻克高端芯片制程,從5nm到4nm,再往下發(fā)展的3nm也在今年實(shí)現(xiàn)量產(chǎn),然后到2025年量產(chǎn)2nm,甚至三星已經(jīng)規(guī)劃了2027年造出1.4nm芯片??呻S著芯片制程的不斷發(fā)展,越往下越難突破。

    如果使用先進(jìn)封裝,或帶來更多的性能提升。業(yè)內(nèi)對(duì)先進(jìn)封裝芯片有怎樣的探索呢?先進(jìn)封裝能延續(xù)摩爾定律嗎?


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先進(jìn)封裝芯片的探索

    芯片遍布生活中的各個(gè)角落,在一些領(lǐng)域?qū)π酒闹瞥淌怯泻艽笠蟮?。比如智能手機(jī)產(chǎn)品,市面上的高端旗艦手機(jī)幾乎都搭載5nm,4nm制程的處理器。

    指甲蓋大小的芯片就能集成上百億根晶體管,在有限的手機(jī)主板面積中發(fā)揮強(qiáng)勁的性能表現(xiàn)。由于手機(jī)主板面積非常寶貴,所以要想提升芯片的性能,在同樣的芯片尺寸范圍內(nèi),只能提高芯片制程工藝,增大晶體管密度,讓芯片容納更多的晶體管。


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    只是未來的芯片制程會(huì)越來越難突破,而且成本也會(huì)增加。那么有沒有既能節(jié)約成本,又能確保芯片性能提升的方式呢?

    或許先進(jìn)封裝是一個(gè)方向。用先進(jìn)的封裝技術(shù)來改變芯片搭載,布控方式。行業(yè)內(nèi)探索的“芯?!薄靶酒询B”等技術(shù)其實(shí)都是先進(jìn)封裝的一種。而根據(jù)形式類別的不同,會(huì)分為平面的2D和立體的3D封裝技術(shù)。


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    臺(tái)積電已經(jīng)在大力探索先進(jìn)封裝,并幫助客戶成功造出全球首顆3D封裝芯片。大致來看,臺(tái)積電是幫助名為Graphcore的廠商生產(chǎn)出IPU芯片,芯片的名稱為“Bow”。

    Bow單個(gè)封裝芯片中集成了600億根晶體管,而且采用的是7nm工藝制程。如果是傳統(tǒng)的單顆芯片,7nm能集成幾十億根晶體管已經(jīng)很不容易了,可以說是突破7nm極限了。


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    就算是5nm制程,市面上主流的芯片也僅僅集成一百多億根晶體管。能做到600億根晶體管的密度,完全得益于先進(jìn)封裝技術(shù)的支持。

    那么這是怎樣的芯片封裝技術(shù)呢?其實(shí)使用的是臺(tái)積電SoIC-WoW技術(shù),通過將兩顆裸片上下疊加,上面的裸片負(fù)責(zé)供電和節(jié)能,下面的裸片保障運(yùn)算和處理。在兩顆裸片的3D封裝效果下,性能疊加,算力和吞吐量都有所提升。

    其實(shí)這只是臺(tái)積電先進(jìn)封裝技術(shù)的其中一項(xiàng)探索,還有為蘋果公司生產(chǎn)的M1 Ultra采用的是InFO-LSI 封裝。


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    從芯片布局來看,是屬于2D封裝技術(shù),兩顆芯片被左右連接在一起,而非上下疊加。但帶來的提升效果也是很明顯的,M1 Ultra的晶體管數(shù)量高達(dá)1140億根。

    臺(tái)積電不僅僅掌握全球領(lǐng)先的芯片制程工藝,而且在先進(jìn)封裝產(chǎn)業(yè)上也進(jìn)行了很深入的探索,成為先進(jìn)封裝行業(yè)的巨頭。SoIC-WoW,InFO-LSI等封裝技術(shù)的運(yùn)用充分說明這條道路的可行性,只要臺(tái)積電堅(jiān)持發(fā)展下去,和行業(yè)伙伴們一起共研共創(chuàng),想必能開創(chuàng)新的先進(jìn)封裝產(chǎn)業(yè)格局。


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先進(jìn)封裝能延續(xù)摩爾定律嗎?

    在傳統(tǒng)的芯片制造路徑中,是通過頂級(jí)的EUV光刻機(jī),配合芯片制造商頂級(jí)的制程技術(shù),造出高端制程芯片。

    只是不難發(fā)現(xiàn),芯片制程工藝的突破速度已經(jīng)放緩了。臺(tái)積電在過去幾年可以做到一年推出一代工藝,但是在2023年,臺(tái)積電說好的3nm遲遲沒有量產(chǎn)。三星已經(jīng)量產(chǎn)出3nm,臺(tái)積電卻始終沒有動(dòng)靜。


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    還有消息稱臺(tái)積電是因?yàn)槌杀具^高,舍棄了初代3nm的工藝。不管情況到底如何,臺(tái)積電今年能否量產(chǎn)出3nm,都釋放出一個(gè)信號(hào),那就是臺(tái)積電已經(jīng)在放慢芯片制程突破的腳步了。

    即便今年量產(chǎn)出3nm,也需要兩三年以后才能量產(chǎn)2nm,中間用數(shù)代3nm工藝升級(jí)版來填補(bǔ)制程空白。

    這樣的表現(xiàn)和摩爾定律的核心觀點(diǎn)是不符的,摩爾定律指出,集成電路可容納的晶體管每隔兩年會(huì)翻倍。簡(jiǎn)單來說就是芯片制程可以持續(xù)突破,沒有盡頭。


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    業(yè)內(nèi)傳出不少摩爾定律終結(jié)的消息,那么先進(jìn)封裝能延續(xù)摩爾定律嗎?從理論上來看 ,其實(shí)是有可能的。

    因?yàn)楹隙橐坏男酒菜阕饕粋€(gè)整合,兩顆被疊加組合使用的芯片有更大的芯片上限。甚至在智能汽車,顯示器等大型終端設(shè)備中,可以容納面積更大的芯片產(chǎn)品,不需要像智能手機(jī)終端一樣,將芯片面積局限在有限的大小。


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總結(jié)

先進(jìn)封裝正在成為臺(tái)積電,三星等行業(yè)巨頭積極探索的方向,用先進(jìn)封裝技術(shù)造出各類芯片,滿足多樣化的市場(chǎng)需求。當(dāng)然,先進(jìn)封裝技術(shù)下如何解決芯片功耗,散熱問題也需要下功夫,就看巨頭們的表現(xiàn)了。



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